负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明1月27日接受采访称，采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标今年或明年出货。
佳能于去年10月宣布推出FPA-1200NZ2C，称其可制造5纳米芯片。佳能方面表示，这款新设备的成本“将比ASML的EUV少一位数”，耗电量也会减少90%。（英国金融时报）
佳能：目标最快今年开始交付低成本纳米压印设备
来源：界面新闻
佳能
3.8k
- 佳能医疗：“三大核心战略目标”助力中国医疗高质量发展
- 进博会上，日企释放持续扩大在华投资信号 | 进博新机遇
评论