华海清科：公司化学机械抛光（CMP）装备出机累计超800台

华海清科12月19日公告，近日，公司化学机械抛光(CMP)装备出机累计超800台，涵盖公司universal-H300、universal-S300等多款主力机型和最新款机型，不仅全面覆盖逻辑、3D NAND存储、DRAM存储等主流产品线，更成功切入大硅片、第三代半导体、CIS、MEMS、MicroLED以及先进封装等领域头部客户供应链，已实现国内主流集成电路制造产线的全覆盖和批量化应用。