南大光电：ArF光刻胶开发和产业化项目正处于光刻胶样品验证阶段

南大光电发布股价异动公告称，公司制备 ArF(193nm)光刻胶用的高纯原材料来源于自主研发，研制出的ArF(193nm)光刻胶样品正在供客户测试。目前“ArF 光刻胶开发和产业化项目”正处于光刻胶样品验证阶段，验证过程预计需要12-18个月，甚至更长的时间。ArF(193nm)光刻胶产品后续是否能取得下游客户的订单，能否大规模进入市场仍存在较多的不确定性。