3月7日,据日经中文网消息,佳能推出了提高半导体生产效率的晶圆测量机。该机型能在描绘电路图的曝光工艺之前,以高精度检出晶圆上产生的偏差和变形。这样可以缩短曝光工艺花费的时间,提高成品率。
佳能推出晶圆测量机,可提升光刻效率
来源:界面新闻
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3月7日,据日经中文网消息,佳能推出了提高半导体生产效率的晶圆测量机。该机型能在描绘电路图的曝光工艺之前,以高精度检出晶圆上产生的偏差和变形。这样可以缩短曝光工艺花费的时间,提高成品率。
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