三星：3纳米GAA制程研发进度领先台积电

台湾《经济日报》8月26日消息，据韩媒Business Korea报道，三星电子装置解决方案事业部门技术长Jeong Eun-seung周三（25日）在一场网络技术论坛中表示，三星能够抢在主要竞争者台积电之前，宣布GAA技术商业化。

他说，“我们开发中的GAA技术，领先主要竞争者台积电。一旦巩固这项技术，我们的晶圆代工事业将可更加成长。”

据报道，GAA是3纳米制程的关键。GAA技术的优点在于改变电晶体架构，将之由鳍式场效电晶体（FinFET）的3D转为GAA的4D。